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      引發日韓半導體之爭的氟化氫的到底有多重要?

      2019-08-22 07:00
      Ai芯天下
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      日本和韓國擦槍走火,日本宣布對出口韓國的三種半導體材料將采取更為嚴格的規范。

      自7月4日起日本將取消韓國的最惠國待遇,在氟化聚酰亞胺、光刻膠、氟化氫這三種材料出口上,從原先的免申請出口許可,改為逐案審核,相關審查流程最長將達90個工作日。

      而引發日韓半導體之爭的氟化氫對于韓國來說意味著什么,如此重要的原材料被限制如何破局也成為關鍵。

      AI芯天下丨引發日韓半導體之爭的氟化氫的到底有多重要

      尋求原材料解決之道

      受日本政府限制對韓出口半導體關鍵材料影響,韓國半導體企業十分重視半導體材料調配問題,三星電子已從比利時采購部分核心原材料。

      目前三星電子現已在比利時某化學公司找到光刻膠貨源,并已向該公司下單購買6至10個月需求量的貨品。光刻膠正是日本7月4日宣布限制向韓國出口的3種半導體關鍵材料之一。

      目前具體公司名稱沒有透露,但被認為指的是日本化學企業JSR和比利時微電子研究中心(IMEC)2016年設立的合資公司EUVResist。EUVResist最大股東是JSRMicro,JSRMicro是JSR在比利時的子公司。

      三星并沒有證實,僅強調其正在多元化其供應管道措施,來因應日本限制措施。且韓國政府正計劃明年大幅提高國家出資的研發支出,以培育和發展主要從海外進口的關鍵工業材料和設備,同時加強致力于在本土生產。

      AI芯天下丨引發日韓半導體之爭的氟化氫的到底有多重要

      氟化氫之于半導體之中

      氟化氫是一種一元弱酸,有毒性,極易揮發,氟化氫用途非常廣泛,其中高純度的氟化氫(HF)對半導體材料的生產至關重要,氟化氫主要用來切割半導體基板,在半導體產品制造的600多道工序中,使用氟化氫的次數有時多達十多次。

      氟化氫應用于半導體生產過程中的蝕刻與雜物清除工序。今年一至五月份韓國企業進口的氟化氫,以總價額計分別為中國占46.3%,日本43.9%,中國臺灣9.7%,印度0.1%。

      高純度氟化氫是半導體用的刻蝕氣體,主要用于晶圓表面清洗、芯片加工過程的清洗和腐蝕,依據不同的氣體種類,其對應的制造商也有所不同。

      總體而言,這類氣體的供應商有關東電化工業、昭和電工、DAIKIN工業、StellaChemifa、森田化工等。

      其中,森田化工在國內有工廠,StellaChemifa雖然主要是在日本廠生產,但在韓國也有合資公司。

      在這一原材料中,雖然日本供應商占一定份額,但非日系供應商也不少,韓國也有刻蝕氣體供應商FOOSUNG,再者,其國內的供應商其實不少,因此這塊不至于被日本廠商掐著脖子,最大差別可能在于質量上,日本供應商的質量相對較高。

      氟化氫對半導體生產環節至關重要、又沒辦法長期保存囤貨,難怪三星乃至整個韓國的半導體企業如此心急了。

      不僅如此,想要拋開日本去需求替代品都很難找到,因為有能力生產上述三種材料(氟聚酰亞胺、光刻膠及高純度氟化氫)、且純度能夠達到半導體制造業使用需求的,主要都是日本和美國企業,其中日本企業占據的份額高達90%、少的也有70%,難怪日本要對這幾種材料下手了,他們的底氣就在這里。

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